行业痛点：高反光表面的“隐形缺陷”之困
在消费电子行业，金属材质手机外壳因质感高端、耐用性强备受青睐，但其镜面抛光表面极易反射环境光，传统光学检测设备常因反光干扰导致图像过曝、细节丢失，微米级划痕、凹坑等缺陷难以精准捕捉。据行业调研，某头部手机制造商曾因外壳缺陷漏检导致批次性客诉，单次损失超千万元。如何实现高反光表面的稳定成像与纳米级缺陷的快速筛查，成为行业提质增效的核心挑战。
针对金属、玻璃、镀膜件等强反光材料的检测难题，普密斯推出Focus X激光对焦显微系统，以自适应激光对焦技术与多模态成像算法为核心，突破传统光学局限，为高难度质检场景提供一站式解决方案。
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抗干扰激光对焦：采用532nm短波长激光源，穿透性强，可抑制环境杂散光干扰。智能调节激光入射角度与强度，避免镜面反射过曝，确保成像清晰度。
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纳米级精度捕捉：分辨率达0.1μm，可识别肉眼不可见的微划痕、颗粒附着等缺陷。支持3D形貌重建，精准量化划痕深度、宽度及分布特征。
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毫秒级动态响应：对焦速度**<10ms**，适配高速产线（最高60fps），实现100%在线全检。自动补偿振动、温度波动等环境变量，确保检测稳定性。
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